等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三中状态存在，但在一些特殊情况下可以以第四种状态存在，这类物质所处的状态称为等离子体态，又称为物质的第四态。

等离子清洗机的机理，主要是依赖于活性颗粒在等离子体中的“激活”来实现对物体表层污渍的去除。等离子清洗机的最大的特点就是不分加工处理目标的材料类别，可同时加工处理多种类型材料。如今随着技术的不断进步，等离子清洗机的作用也得到了广泛的发挥。常规的清洗方法不会完美，常在清洗后仍然残留薄薄的一层污染物。但如果采取等离子体活化工艺清洗，弱化学键将很容易被打断，即使污染物残留是在几何形状非常复杂的表面上...

主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无极气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。